主營:擴(kuò)散/氧化爐,太陽能設(shè)備,LPCVD,LED合金爐,真空/氮?dú)鉅t,鏈?zhǔn)?隧道爐,壓力燒結(jié)爐,真空熱處理爐
產(chǎn)品介紹
pecvd滿足半導(dǎo)體集成電路,電力電子器件,光電子等行業(yè)用于在硅片上淀積si o2、si 3n4、poly-si、磷硅玻璃、硼硅玻璃、非晶硅及難熔金屬硅化物等多種薄膜工藝。
pecvd系統(tǒng)性能特點(diǎn):
結(jié)構(gòu)形式:1—4管臥式熱壁型
硅片規(guī)格:2—8英寸硅片(或125×125mm、156×156mm方片)
溫度范圍:300~1100℃
恒溫區(qū)長度及精度:200mm—1000mm(±1℃/24h)
淀積薄膜均勻性: 片內(nèi)±5% 片間±5% 批間±5%
沉積膜厚度:600~1 5000a
系統(tǒng)極限真空度:優(yōu)于1pa
工作壓力范圍:20~133pa閉環(huán)控制
控制方式:工業(yè)微機(jī)
送料裝置:懸臂推拉舟、軟著陸系統(tǒng)
淀積薄膜分類:si 3n4、si02、psg、pply-si膜
真空泵:羅茨泵、機(jī)械泵
工藝氣路:5路氣/管。vcr接口
40kfiz脈寬調(diào)制ae高頻電源
裝片量:200片/舟
免責(zé)申明:以上所展示的信息由企業(yè)自行提供,內(nèi)容的真實(shí)性、準(zhǔn)確性和合法性由發(fā)布企業(yè)負(fù)責(zé),鋁道網(wǎng)對(duì)此不承擔(dān)任何保證責(zé)任。為保障您的利益,我們建議您選擇鋁道網(wǎng)的 鋁業(yè)通會(huì)員。友情提醒:請(qǐng)新老用戶加強(qiáng)對(duì)信息真實(shí)性及其發(fā)布者身份與資質(zhì)的甄別,避免引起不必要
風(fēng)險(xiǎn)提示:創(chuàng)業(yè)有風(fēng)險(xiǎn),投資需謹(jǐn)慎。打擊招商詐騙,創(chuàng)建誠信平臺(tái)。維權(quán)舉報(bào):0571-89937588。