氧化爐

所屬行業(yè)： 半導(dǎo)體工藝設(shè)備
產(chǎn)品內(nèi)容： 產(chǎn)品應(yīng)用：應(yīng)用于集成電路、分立器件、光電子器件、電力電子器件、太陽能電池等領(lǐng)域，適用2~8英寸工藝尺寸

產(chǎn)品特點(diǎn)：
◆主機(jī)為水平一至三管爐系統(tǒng)構(gòu)架，獨(dú)立完成不同的工藝或相同工藝
◆工業(yè)計(jì)算機(jī)控制系統(tǒng)，對(duì)爐溫、進(jìn)退舟、氣體流量、閘門等動(dòng)作進(jìn)行自動(dòng)控制
◆采用懸臂送片器：操作方便、無摩擦污染等
◆關(guān)鍵部件均采用進(jìn)口，確保設(shè)備的高可靠性
◆工藝管路采用進(jìn)口閥門管見組成-氣密性好、耐腐蝕、無污染（管路均采用ep級(jí)電拋光管
路），流量控制采用質(zhì)量流量計(jì)（mfc）進(jìn)口
◆控溫精度高，溫區(qū)控溫穩(wěn)定性好
◆具有斷電報(bào)警、超溫報(bào)警、極限超溫報(bào)警等多種安全保護(hù)功能
◆高質(zhì)量的加熱爐體，確保恒溫區(qū)的高穩(wěn)定性及長(zhǎng)壽命

主要技術(shù)指標(biāo)
1、工藝說明
1.1氧化：干氧工藝，濕氧工藝（去離子水、氫氧合成-內(nèi)/外點(diǎn)火）
1.2擴(kuò)散：硼擴(kuò)、磷擴(kuò)（液態(tài)源、固態(tài)源等）
1.3合金、退火等工藝

2、系統(tǒng)組成：主機(jī)（加熱體、石英/sic管、功率組件等)、自動(dòng)送片（懸臂-sic）凈化工作臺(tái)、氣路氣源系統(tǒng)（氣源柜）、計(jì)算機(jī)控系統(tǒng)等組成

3、控制方式：手動(dòng)送片/自動(dòng)送片

4、配置（可選）：
4.1儀表控制/計(jì)算機(jī)控制
4.2工藝管（水平結(jié)構(gòu)）：1-3管
4.3工藝規(guī)格：2~6英寸晶圓或125mm×125mm、156mm×156mm太陽能電池片（工藝腔體為石英或碳化硅）
4.4恒溫區(qū)長(zhǎng)度：800mm/600mm/450mm
4.5晶圓裝載：手動(dòng)/懸臂式（剛玉/碳化硅桿，碳化硅槳）
4.6工作臺(tái)：有凈化/無凈化
4.7工藝氣路：對(duì)應(yīng)的工藝氣路，氣路閥門組件采用國際優(yōu)質(zhì)品牌產(chǎn)品（如swagelok、park、sandvik、cardinal等等），mfc國際優(yōu)質(zhì)（如mks、unit、stec等）或國產(chǎn)優(yōu)質(zhì)

5、主要技術(shù)參數(shù)：
5.1工作溫度：200～1300℃
5.2加熱體控制點(diǎn)：3點(diǎn)
5.3爐體恒溫區(qū)：450mm/600mm/800mm
5.4恒溫區(qū)精度：＞800℃/±0.5℃ ，＜800℃/±1℃
5.5單點(diǎn)溫度穩(wěn)定性：600～1300℃/ ±0.5℃/24h
5.6可控升溫速度：15℃/min
5.7降溫速度：5℃/min（900～1300℃）
5.8供電：三相四線，380vac/50hz

6、結(jié)構(gòu)尺寸：
6.1 結(jié)構(gòu)：水平擴(kuò)散爐
垂直擴(kuò)散爐