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HVA 真空閥門應(yīng)用于E-Beam 鍍膜機(jī)

發(fā)布日期：2023-05-12 來源：網(wǎng)絡(luò) 作者：匿名

某**** Sputtering E-Beam PVD 鍍膜機(jī)系統(tǒng)采用 HVA 真空閥門 11000, HVA 真空閥門安裝在分子泵口便于泵的檢修,同時外系統(tǒng)停機(jī)時不破壞系統(tǒng)真空, 只要對泵內(nèi)部進(jìn)行破真空即可.

HVA 不銹鋼真空閘閥 11000 系列標(biāo)準(zhǔn)技術(shù)規(guī)格: 

 閥門材質(zhì):

 - 閥門主體

 304 不銹鋼

 - 焊接波紋管軸封

 AM - 350

 閥門密封方式

 - 高真空

 氟橡膠

 - 非常高真空

 銅墊圈 / 氟橡膠

 真空:

 - 壓力范圍

 高真空 1x10-9 mbar, 非常高真空 1x10-10 mbar

 - 漏率

 < 2x10-9  mbar l/S

 - 差壓關(guān)閉

 1 bar ( 任意位置 )

 - 開啟前較大壓力

 ≤ 30 mbar

 烘烤溫度（不含電磁閥）:

 - 彈性體密封閥蓋

 150°C

 - 金屬密封閥蓋

-開啟溫度：200°C

-關(guān)閉值：150°C

 - 驅(qū)動方式

 手動 60 °c, 氣動 60 °c

機(jī)制

手動：

手搖曲柄

電磁閥供電電壓

 120 VAC 50 /60 Hz

電磁閥可選電壓

 24, 200, 240 VAC 50/60 Hz
 或 12, 24 VDC

 電磁閥位置指示器,較大

 115 VAC
 或 28 VDC, 20 mA

氣動送風(fēng)：

80 psig

 使用壽命: 100,000 啟閉次數(shù) (具體視實際使用情況決定)

 公稱通徑: DN 16 - 800 mm

  

E-Beam 鍍膜機(jī)設(shè)備組成: 系統(tǒng)主要由蒸發(fā)室, 電子槍, 進(jìn)樣室 (可選) , 旋轉(zhuǎn)基片加熱臺, 工作氣路, 抽氣系統(tǒng), 真空測量, 電控系統(tǒng)及安裝機(jī)臺等部分組成.

 

基片在做實驗前一般需要做鍍前預(yù)處理, 鍍前預(yù)處理的目的是為了得到干凈新鮮的金屬表面, 為較后獲得高質(zhì)量鍍層作準(zhǔn)備, 要進(jìn)行脫脂, 去銹蝕, 去灰塵等工作, 也有客戶在 LOADLOCK 腔進(jìn)行射頻反應(yīng)清洗, 通過使用上海伯東 KRI 離子源將基片的表層打掉, 得到更光滑和均勻的表面.

 

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