氮化鋯(ZrN)靶材 磁控濺射靶材 電子束鍍膜蒸發(fā)料 

【參數說明】

支持靶材定制，請?zhí)峁┌胁漠a品的元素、比例（重量比或原子比）、規(guī)格，我們會盡快為您報價��！ 

【產品介紹】

氮化鋯(Zr-N)化合物隨著成份的變化而有多種晶體結構，如:在Zr-N合金體系中，已發(fā)現的合金化合物有ZrN、o-Zr3N4、c-Zr3N4。它們不但具有不錯的化學性質，不僅可以用在Josephson結，擴散式迭層，低溫度計等，還可以使用在三維集成電線圈，金屬基晶體管上。同時這些Zr-N化合物在耐磨、舒緩反應和抗腐蝕等方面優(yōu)于純鋯，而且具有較高的超導臨界溫度，所以可以有可能成為很好的超導體，具有很高的使用價值。

中文名	氮化鋯	熔點	2980±50℃
化學式	ZrN	密度	7.09克/立方厘米
分子量	105.23

 

【關于我們】

服務項目：靶材成份比例、規(guī)格、純度均可按需定制。科研單位貨到付款，質量保證，售后無憂！

產品附件：發(fā)貨時產品附帶裝箱單/質檢單/產品為真空包裝

適用儀器：多種型號磁控濺射、熱蒸發(fā)、電子束蒸發(fā)設備 

質量控制：嚴格控制生產工藝，采用輝光放電質譜法GDMS或ICP光譜法等多種檢測手段，分析雜質元素含量保證材料的高純度與細小晶粒度；可提供質檢報告。 

加工流程：熔煉→提純→鍛造→機加工→檢測→包裝出庫

陶瓷化合物靶材本身質脆且導熱性差，連續(xù)長時間濺射易發(fā)生靶裂情況，綁定背靶后，可提高化合物靶材的導熱性能，提高靶材的使用壽命。我們強烈建議您，選購陶瓷化合物靶材一定要綁定銅背靶！

我公司采用高純銦作為焊料，銦焊厚度約為0.2mm，高純無氧銅作為背靶。

注  ：高純銦的熔點約為156℃，靶材工作溫度超過熔點會導致銦熔化！綁定背靶不影響靶材的正常使用！

建議：陶瓷脆性靶材、燒結靶材，高功率下濺射易碎，建議濺射功率不超過3W/cm2。

我公司主營金屬靶材、陶瓷靶材、合金靶材，歡迎您的垂詢。