等離子電漿拋光設(shè)備

 

環(huán)保電離子納米拋光設(shè)備主要用于鋁材高光鏡面拋光、去批鋒毛刺處理，影響尺寸精度0.004mm，粗糙度可達(dá)0.2，主要用于手機(jī)、電腦配件，電子數(shù)碼配件等的產(chǎn)品加工。電離子納米拋光技術(shù)主要是針對(duì)目前市場(chǎng)上鋁合金去毛刺的難題而研發(fā)的，該技術(shù)可在去除鋁材表面毛刺的同 時(shí)作到表面鏡面拋光效果。 主要技術(shù)要點(diǎn)是將之前的等離子拋光中的氣態(tài)粒子，原子、分子、原子團(tuán)、氣離子和和電離子得到數(shù)萬(wàn)部的增加，而這些離子在對(duì)要拋光的工件進(jìn)行物理摩擦?xí)r它們的平均活躍度得到了從未有過(guò)的增加，它的活躍程度遠(yuǎn)遠(yuǎn)高于鋁材表面的活躍度達(dá)數(shù)億倍，使鋁材表面的光潔度脫影而出 。環(huán)保電離子納米拋光設(shè)備拋光出的產(chǎn)品具有高品質(zhì)，而且可以對(duì)一些人工不可能拋光的準(zhǔn)確工件加以拋光。其精度控制較高,尺寸影響小,通�？煽刂圃�0.1微米/分鐘,拋光均勻，使整個(gè)工件表面和死角部位都可以達(dá)到一致的鏡面效果。增強(qiáng)拋光面的抗腐蝕性能，拋光過(guò)程中使工件表面產(chǎn)生一層鈍化膜，使其保持耐久光亮，有效防止氧化。高純度，有效減小對(duì)電子類(lèi)產(chǎn)品的沾污。拋光后產(chǎn)品的特性主要表現(xiàn)在：粗糙度降低，光潔度、準(zhǔn)確度提高、堅(jiān)硬耐用、缺口敏感性降低、變得光滑整齊、摩擦系數(shù)下降、磨損減少等。