氮化硅產(chǎn)品,氮化硅 應用 作者:杭州瑞目特科技有限公司,氮化硅、氧化鋯、氧化鋁陶瓷供應商特種陶瓷是隨著現(xiàn)代電器,無線電、航空、原子能、冶金、機械、化學等工業(yè)以及電子計算機、空間技術、新能源開發(fā)等高等科學技術的飛躍發(fā)展而發(fā)展起來的.這些陶瓷所用的主要原料不再是粘土,長石,石英,有的坯休也使用一些粘土或長石,然而更多的是采用純粹的氧化物和具有特殊性能的原料,制造工藝與性能要求也各不相同。, 陶瓷的斷裂韌性其作用機理主要是把具有高彈性和高度度的纖維或晶須添加到材料中后,使裂紋擴展的剩余能量滲入到纖維或晶須中,發(fā)生纖維或晶須的拔出、脫粘和斷裂,導致斷裂能被消耗或裂紋擴展方向發(fā)生偏轉(zhuǎn)等,從而形成了復合材料斷裂時新的吸能機制,使復合材料的韌性大大提高1、氮化硅陶瓷絕緣環(huán)基本性質(zhì) 耐熱,在常壓下,Si3N4沒有熔點氮化硅具有耐磨,耐熱性,用作蒸汽噴嘴,在800℃的鍋爐工作半年后無明顯損壞,其他耐熱蝕合金噴嘴在同樣條件下只能使用1-2個月Im(KL ie KLie 是特征長度;e是界面的振 蕩指數(shù)由于界面裂紋的上述特性,所以不能采用 單一載荷下的 準則(應力強度因子準則)來評價界面斷裂性能,而臨界應變能量釋放率更適合作為 評價界面斷裂性能的參量 四點彎曲試驗測量界面應變能量釋放率 為測量涂層 基體界面處的應變能量釋放率,四點彎曲試樣形式如圖 所示到目前為止,已發(fā)現(xiàn)的A1z03晶體結(jié)構(gòu)有十余種,但主要的有三種,即—A120z、p—A1203和7—A1202,在1300℃以上的溫度時其它兩種氧化鋁幾乎完全轉(zhuǎn)變?yōu)椤狝lzOs2、氮化硅塊材料性能 ,雖然超滑技術還在起步階段且對于超滑的機理研究 仍不太清楚,但其能夠?qū)崿F(xiàn)比常規(guī)潤滑劑小一個數(shù)量級的摩 擦系數(shù),超滑技術在未來必將得到較大的發(fā)展, 氮化硅材料在冰晶石中的熔鹽腐蝕 氮化硅復合材料常作為熔鹽電解法制備鋁 的反應容器內(nèi)壁, 不可避免的要受到熔融冰晶石 的腐蝕, 目前尚未報道高純度氮化硅在熔融冰晶 石中的腐蝕基于實際應用, 關于氮化硅結(jié)合碳 化硅材料或 SiC復合材料在冰晶石腐蝕行為已有報道3、氮化硅結(jié)構(gòu)陶瓷工藝方法 注漿成型三個階段:1. 泥漿注入模具后,在石膏模毛細管力的作用下吸收泥漿中的水,靠近模壁的 泥漿中的水分首先被吸收,泥漿中的顆粒開始靠近,形成初的薄泥層 2. 水分進一步被 吸收,其擴散動力為水分的壓力差和濃度差,薄泥層逐漸變厚,泥層內(nèi)部水分向外部擴散, 當泥層厚度達到注件厚度時,就形成雛坯 3. 石膏模繼續(xù)吸收水分,雛坯開始收縮,表面 的水分開始蒸發(fā),待雛坯干燥形成具有一定強度的生坯后,脫模即完成注漿成型熱壓燒結(jié)法(HPS),是將Si3N4 粉末和少量添加劑(如MgO、Al2O3、MgF2、Fe2O3 等),在1916 MPa以上的壓強和1600 ℃以上的溫度進行熱壓成型燒結(jié)英國和美國的一些公司采用的熱壓燒結(jié)Si3N4 陶瓷,其強度高達981MPa以上燒結(jié)時添加物和物相組成對產(chǎn)品性能有很大的影響由于嚴格控制晶界相的組成,以及在Si3N4 陶瓷燒結(jié)后進行適當?shù)臒崽幚?所以可以獲得即使溫度高達1300 ℃時強度(可達490MPa以上)也不會明顯下降的Si3N4系陶瓷材料,而且抗蠕變性可提高三個數(shù)量級若對Si3N4 陶瓷材料進行1400———1500 ℃高溫預氧化處理,則在陶瓷材料表面上形成Si2N2O相,它能顯著提高Si3N4 陶瓷的耐氧化性和高溫強度熱壓燒結(jié)法生產(chǎn)的Si3N4 陶瓷的機械性能比反應燒結(jié)的Si3N4 要優(yōu)異,強度高、密度大但制造成本高、燒結(jié)設備復雜,由于燒結(jié)體收縮大,使產(chǎn)品的尺寸精度受到一定的限制,難以制造復雜零件,只能制造形狀簡單的零件制品,工件的機械加工也較困難4、氮化硅陶瓷輥棒制備方法 電子級的氮化硅薄膜是通過化學氣相沉積或者等離子體增強化學氣相沉積技術制造的: 3 SiH4(g) + 4 NH3(g) → Si3N4(s) + 12 H2(g) 3 SiCl4(g) + 4 NH3(g) → Si3N4(s) + 12 HCl(g) 3 SiCl2H2(g) + 4 NH3(g) → Si3N4(s) + 6 HCl(g) + 6 H2(g) 如果要在半導體基材上沉積氮化硅,有兩種方法可供使用: 利用低壓化學氣相沉積技術在相對較高的溫度下利用垂直或水平管式爐進行 等離子體增強化學氣相沉積技術在溫度相對較低的真空條件下進行 氮化硅的晶胞參數(shù)與單質(zhì)硅不同因此根據(jù)沉積方法的不同,生成的氮化硅薄膜會有產(chǎn)生張力或應力特別是當使用等離子體增強化學氣相沉積技術時,能通過調(diào)節(jié)沉積參數(shù)來減少張力5、氮化硅陶瓷環(huán)行業(yè)資訊 陶瓷與金屬的釬焊技術是金屬陶瓷材料得以發(fā)展和應用的關鍵技術之一概述了陶瓷與金屬釬焊的困難,闡述了陶瓷與金屬釬焊的技術方法及其研究進展,展望了陶瓷與金屬釬焊技術的應用前景陶瓷材料具有優(yōu)異的耐高溫、耐磨損、抗腐蝕性能和密度低、絕緣性好的特點, 在汽車、***、電子、航空航天等領域具有廣闊的應用前景然而陶瓷塑性差、脆性高的特點一方面造成了形狀復雜的陶瓷零件加工成型困難,另一方面決定了其在單獨使用過程中抵抗熱應力和沖擊載荷的能力差根據(jù)使用要求選擇有效的連接方法,將陶瓷與金屬連接起來獲得陶瓷一金屬復合構(gòu)件,能把二者的優(yōu)點結(jié)合起來,充分發(fā)揮陶瓷材料的優(yōu)異性能并拓寬其應用范圍。6、氮化硅陶瓷制造商相關應用/用途 氮化硅陶瓷材料具有熱穩(wěn)定性高、舒緩反應能力強以及產(chǎn)品尺寸度高等優(yōu)良性能,由于氮化硅是鍵強高的共價化合物,并在空氣中能形成氧化物保護膜,所以還具有良好的化學穩(wěn)定性,1200℃以下不被氧化,1200~1600℃生成保護膜可防止進一步氧化,并且不被鋁、鉛、錫、銀、黃銅、鎳等很多種熔融金屬或合金所浸潤或腐蝕,但能被鎂、鎳鉻合金、不銹鋼等熔液所腐蝕國內(nèi)外準確陶瓷材料的發(fā)展趨勢
上一篇: 氮化硅半球,氮化硅的應用 下一篇: 氮化硅除氣轉(zhuǎn)子,氮化硅工業(yè)用途