一、 設備基本原理及主要用途
1. 設備用途
適用于電子陶瓷與高溫結構陶瓷的燒結、玻璃的準確退火與微晶化、晶體的準確退火、陶瓷釉料制備、粉末冶金、納米材料的燒結、金屬零件淬火及一切需快速升溫工藝要求的熱處理,應用于電子元器件、新型材料及粉體材料的真空氣氛處理,材料在惰性氣氛環(huán)境下進行燒結。本設備具有安全可靠、操作簡單、控溫精度高、保溫效果好、溫度范圍大、爐膛溫度均勻性高等特點。綜合性能指標較高,處于國內優(yōu)異水平。根據(jù)不同的使用氣氛及使用溫度,使用不同的加熱元件,型號齊全,對需在惰性氣體環(huán)境下燒結的材料,本設備是一個非常好的選擇,同時也可滿足于不同工藝實驗而特殊制造。
二、 主要技術參數(shù)
1. 加熱功率: 5KW
加熱形式: 1400型優(yōu)質硅碳棒
左右兩面加熱,溫場均勻,能耗低
升溫速率建議:10℃/Min Max:20℃/Min
1. 爐膛尺寸: 500mm*400mm*400mm(長方體)
2. 外形尺寸: 4800mm*5300mm*5600mm(高/寬/長)
3. 保溫材料: 1400型高純氧化鋁微晶體纖維,保溫性能好
4. 裝料方式: 前側裝料
5. 氣氛種類: 惰性氣體(氮氣,氬氣)
6. 常規(guī)中空度: 6.7x10^(-2) Pa
7. 較限真空度: 6.7x10^(-3) Pa
8. 較限充氣壓力:≤0.05Mpa
9. 長期使用壓力:≤0.04Mpa(微正壓、表壓)
10. 控制精度: ±1 ℃
11. 熱電偶型號:B型
12. 溫控控制: 30段程序控溫系統(tǒng),PID控制
13. 內外層爐殼: SECC鋼板防銹處理,并經(jīng)粉體烤漆處理
14. 設備表面溫度:≤60℃
15. 數(shù)據(jù)導出系統(tǒng):可通過USB將升降溫工藝導出,曲線圖顯示
一、 結構組成
真空電阻爐主要由爐體、加熱保溫系統(tǒng)、真空系統(tǒng)、氣氛控制系統(tǒng)、水冷系統(tǒng)、電器控制系統(tǒng)等組成。
VRSF1200系列真空電阻爐:
VRSF12-10 | 100*100*100 | 0.005 Pa | 0.05 Pa | 1200℃ | 1100℃ | 1 KW | 單相 220V | 電阻絲 | K型 |
VRSF12-30 | 300*200*200 | 0.005 Pa | 0.05 Pa | 1200℃ | 1100℃ | 4 KW | 單相 220V | 電阻絲 | K型 |
VRSF12-40 | 400*300*300 | 0.005 Pa | 0.05 Pa | 1200℃ | 1100℃ | 9 KW | 三相 380V | 電阻絲 | K型 |
VRSF12-50 | 500*400*400 | 0.005 Pa | 0.05 Pa | 1200℃ | 1100℃ | 15 KW | 三相 380V | 硅碳棒 | K型 |
VRSF12-60 | 600*600*600 | 0.005 Pa | 0.05 Pa | 1200℃ | 1100℃ | 40 KW | 三相 380V | 硅碳棒 | K型 |
可根據(jù)客戶實際使用溫度、尺寸定制。
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