北京匯方圓科技有限公司

我公司有經(jīng)驗生產(chǎn)靶材的生產(chǎn)工藝：通過金屬熔煉，粉末冶金，非金屬粉末方法運用真空熔煉，普通熱壓，冷壓燒結(jié)等方法成型，通過鍛造，熱軋或冷軋，再經(jīng)過熱處理清理型材應力并使之均質(zhì)化或通過高溫燒結(jié)增加其致密性，然后再對處理過的型材進行車，銑，刨，磨等機加工過程，再清洗，烘干，完成較終產(chǎn)品。有時根據(jù)需要對某些靶材地面金屬化后進行與無氧銅背板的綁定。較后經(jīng)過超聲波或者X光等檢測，包裝，出廠。

靶材種類：金屬靶材，陶瓷靶材，合金靶材。

半導體關聯(lián)靶材：

電較、布線薄膜：鋁靶材，銅靶材，金靶材，銀靶材，鈀靶材，鉑靶材，鋁硅合金靶材，鋁硅銅合金靶材等，

儲存器電較薄膜：鉬靶材，鎢靶材，鈦靶材等

粘附薄膜：鎢靶材，鈦靶材等

電容器絕緣膜薄膜：鋯鈦酸鉛靶材等

磁記錄靶材：

垂直磁記錄薄膜：鈷鉻合金靶材等

硬盤用薄膜：鈷鉻鉭合金靶材，鈷鉻鉑合金靶材，鈷鉻鉭鉑合金靶材等

薄膜磁頭：鈷鉭鉻合金靶材，鈷鉻鋯合金靶材等

人工晶體薄膜：鈷鉑合金靶材，鈷鈀合金靶材等

光記錄靶材：

相變光盤記錄薄膜：硒化碲靶材，硒化銻靶材，鍺銻碲合金靶材，鍺碲合金靶材等

磁光盤記錄薄膜：鏑鐵鈷合金靶材，鋱鏑鐵合金靶材，鋱鐵鈷合金靶材，氧化鋁靶材，氧化鎂靶材，氮化硅靶材等

光盤反射薄膜：鋁靶材，鋁鈦合金靶材，鋁鉻合金靶材，金靶材，金合金靶材等

光盤保護薄膜：氮化硅靶材，氧化硅靶材，硫化鋅靶材等

顯示靶材：

透明導電薄膜：氧化銦錫靶材，氧化鋅鋁靶材，大型旋轉(zhuǎn)AZO靶材等

電較布線薄膜：鉬靶材，鎢靶材，鈦靶材，鉭靶材，鉻靶材，鋁靶材，鋁鈦合金靶材，鋁鉭合金靶材等

電致發(fā)光薄膜：硫化鋅摻錳靶材，硫化鋅摻鋱靶材，硫化鈣摻銪靶材，氧化釔靶材，氧化鉭靶材，鈦酸鋇靶材等

其他應用靶材：

裝飾薄膜：鈦靶材，鋯靶材，鉻靶材，鈦鋁合金靶材，不銹鋼靶材等

低電阻薄膜：鎳鉻合金靶材，鎳鉻硅合金靶材，鎳鉻鋁合金靶材，鎳銅合金靶材等

超導薄膜：釔鋇銅氧靶材，鉍鍶鈣銅氧靶材等

工具鍍薄膜：氮化物靶材，碳化物靶材，硼化物靶材，鉻靶材，鈦靶材，鈦鋁合金靶材，鋯靶材，石墨靶材等

我公司生產(chǎn)的圓形靶材直徑25-250mm；矩形靶材較長1500mm，新開發(fā)的大型旋轉(zhuǎn)AZO靶材參數(shù)可根據(jù)用戶的要求進行加工。我們的愿望就是給客戶較高的產(chǎn)品質(zhì)量，較優(yōu)的產(chǎn)品的價格，較滿意的服務。真誠期待與您的合作，我們會以實際行動來兌現(xiàn)對您的承諾：為您提供您所需的較優(yōu)異的新材料，在長期合作中實現(xiàn)共贏，攜手共創(chuàng)偉業(yè)。