主營(yíng):線材搖擺試驗(yàn)機(jī),電容器耐久性試驗(yàn)臺(tái),電池跌落試驗(yàn)機(jī),冷熱沖擊試驗(yàn)箱
ZZ-A13中洲測(cè)控生產(chǎn)的多晶硅少子壽命測(cè)試儀是這款硅片少子壽命測(cè)試儀,不僅適用于硅片少子壽命的測(cè)量,更適用于硅棒、硅芯、檢磷棒、檢硼棒、籽晶等多種不規(guī)則形狀硅少子壽命的測(cè)量。主要應(yīng)用于硅棒、硅芯、檢磷棒、檢硼棒、籽晶、硅塊、硅片的進(jìn)廠、出廠檢查,生產(chǎn)工藝過(guò)程中重金屬沾污和缺陷的監(jiān)控等。多晶硅少子壽命測(cè)試儀測(cè)試范圍廣:包括硅塊、硅棒、硅芯、檢磷棒、檢硼棒、籽晶、硅片等的少子壽命及鍺單晶的少子壽命測(cè)量。適用于低阻硅料少子壽命的測(cè)量,電阻率測(cè)量范圍可達(dá)ρ>0.1Ω?cm(可擴(kuò)展至0.01Ω?cm),完全解決了微波光電導(dǎo)無(wú)法檢測(cè)低阻單晶硅的問題。全程監(jiān)控動(dòng)態(tài)測(cè)試過(guò)程,避免了微波光電導(dǎo)(u-PCD)無(wú)法觀測(cè)晶體硅陷阱效應(yīng),表面復(fù)合效應(yīng)缺陷的問題。貫穿高層度大,達(dá)500微米,相比微波光電導(dǎo)的30微米的貫穿高層度,真實(shí)體現(xiàn)了少子的體壽命的測(cè)量,避免了表面復(fù)合效應(yīng)的干擾。多晶硅少子壽命測(cè)試儀配置兩種波長(zhǎng)的紅外光源1、1.07μm波長(zhǎng)紅外光源,光穿透硅晶體高層度較深≥500μm,有利于準(zhǔn)確測(cè)量晶體少數(shù)載流子體壽命。2、0.904~0.905μm波長(zhǎng)紅外脈沖激光器,光穿透硅晶體高層度較淺≈30μm,但光強(qiáng)較強(qiáng),有利于測(cè)量低阻太陽(yáng)能級(jí)硅晶體。多金硅少子壽命測(cè)試儀 測(cè)量范圍:1、研磨或切割面:電阻率≥0.5Ω·㎝的單晶硅棒、定向結(jié)晶多晶硅塊少子體壽命,切割片的少子相對(duì)壽命。2、拋光面:電阻率在0.1~0.01Ω·㎝范圍內(nèi)的硅單晶、鍺單晶拋光片?蓽y(cè)范圍:1、分體式:2μS—10ms2、一體式:0.5μS—20ms
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