產(chǎn)品概述:
PT-T1600-S6012LB3 1600度三溫區(qū)真空氣氛管式爐三個(gè)數(shù)字溫度控制器可單獨(dú)控制溫度,并可設(shè)置30段升降溫程序,溫區(qū)1(加熱區(qū)中心)采用硅鉬棒加熱,另外兩個(gè)溫區(qū)用硅碳棒進(jìn)行加熱,此款管式爐可以形成一個(gè)溫度梯度,調(diào)整三個(gè)溫區(qū)的溫度,在熱梯度下制備功能材料,同時(shí)也適用于CVD法制作薄膜外延生長(zhǎng)。爐體采用雙層殼體結(jié)構(gòu),并帶有風(fēng)冷系統(tǒng),使得殼體的表面溫度小于60度,爐膛的保溫材料采用高純氧化鋁,環(huán)保節(jié)能,可以減少熱量的損失,內(nèi)爐膛表面涂有高溫氧化鋁涂層可以提高設(shè)備的加熱效率,同時(shí)也可以延長(zhǎng)儀器的使用壽命。
適用范圍:
PT-T1600-S6012LB3 1600度三溫區(qū)真空氣氛管式爐主要應(yīng)用于高等院校、科研院所、工礦企業(yè)等實(shí)驗(yàn)和小批量生產(chǎn)之用。用于電子陶瓷產(chǎn)品的預(yù)燒、燒結(jié)、鍍膜、高溫?zé)峤獾蜏爻练e(CVD)工藝等。
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